Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern
- Status
- Vergeben
- Angebotsfrist
- Nicht angegeben
- Geschätzter Wert
- Nicht angegeben
- Lose
- 1
- Auftraggeber
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Erfüllungsregion
- Baden-Württemberg, Deutschland
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Auftragsart
- Lieferleistung
- Veröffentlicht
- 11.11.2026
- CPV-Codes
- Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke (42900000)
- Bekanntmachung
- ted.europa.eu
- Bekanntmachungsnummer
- 785189-2026
- Verfahrensnummer
- 2075ee3e-5f31-460c-b836-3a81dbc9928b
Fragenkatalog
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Kurzbeschreibung
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft für das Fraunhofer IAF eine wassergekühlte Hochvakuum-Anlage zur Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern. Die Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage soll Metall sowohl senkrecht als auch schräg auftragen können, wobei die Wafer um 45 Grad geneigt werden. Der Auftrag ist der Region Stuttgart zugeordnet und hat eine angegebene Dauer von 210 Tagen.
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Leistungsbeschreibung
Evaporation System (IAF-06.1)
Leistungen nach Losen (1)
LOT-0000 · Evaporation System (IAF-06.1) - PR1197813-2050-P
1 Evaporation System Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung einer Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung. Die Anlage soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt sein. Es handelt sich um eine wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage für die Metallabscheidung im vertikalen und schrägen Winkel (Substrat um 45 Grad geneigt).
Wie wird das Angebot bewertet?
LOT-0000 · Evaporation System (IAF-06.1) - PR1197813-2050-P
- Technik
- 65 %
- Preis
- 35 %
Vergabeunterlagen
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