Beschaffung eines RIE-Cluster-Systems für DRIE- und Cryo-Etch-Verfahren
- Status
- Vergeben
- Angebotsfrist
- 15.04.2026, 10:00 (Europe/Berlin)
- Geschätzter Wert
- Nicht angegeben
- Lose
- 1
- Auftraggeber
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Erfüllungsregion
- Sachsen, Deutschland
- Verfahren
- Verhandlungsverfahren mit Aufruf
- Auftragsart
- Lieferleistung
- Veröffentlicht
- 16.03.2026
- CPV-Codes
- Mikroelektronische Maschinen und Geräte (31712100)
- Bekanntmachung
- vergabe.fraunhofer.de
- Bekanntmachungsnummer
- 178451-2026
- Verfahrensnummer
- 3d11fba2-89b7-4cf7-b099-7a5c6dd60edf
Fragenkatalog
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Kurzbeschreibung
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt die Lieferung eines RIE-Cluster-Systems (Reactive Ion Etching) für DRIE- und Cryo-Etch-Prozesse aus. Das Gerät ist für den Standort Chemnitz vorgesehen und soll innerhalb von 360 Tagen geliefert werden. Es handelt sich um ein hochspezialisiertes Forschungsgerät für die Halbleiterfertigung.
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Leistungsbeschreibung
RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04)
Leistungen nach Losen (1)
LOT-0000 · RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P
1 pc. RIE Cluster DRIE & Cryo Etch
Anforderungen an deinen Betrieb
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. Siehe Vergabeunterlagen
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Zum UrsprungsportalAnforderungen
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. Siehe Vergabeunterlagen
Änderungen und Bieterfragen
1 Eintrag- 04.08.2026VergabebekanntmachungBekanntmachung 537542-2026
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