Beschaffung eines Substrathandlers für eine Ionenstrahlanlage

Status
Vergeben
Angebotsfrist
Nicht angegeben
Geschätzter Wert
Nicht angegeben
Lose
1
Erfüllungsregion
Sachsen, Deutschland
Verfahren
Verhandlungsverfahren ohne Aufruf
Auftragsart
Lieferleistung
Veröffentlicht
25.06.2026
CPV-Codes
Industrielle Maschinen (42000000)
Bekanntmachung
ted.europa.eu
Bekanntmachungsnummer
436612-2026
Verfahrensnummer
9a00bb27-6180-4bc1-a525-cbab941318df

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Kurzbeschreibung

Das Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung beschafft einen spezialisierten Substrathandler für eine bereits in Auftrag gegebene Ionenstrahlanlage. Das System muss schwere Substrate (bis 500 kg Gesamtmasse) schwenken, auf eine Höhe von 3 Metern heben und in die Anlage transferieren. Es handelt sich um eine Sonderanfertigung, da die Anlage selbst eine Spezialkonstruktion ist.

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Leistungsbeschreibung

Im Rahmen einer SAB/EFRE-Investitionsmaßnahme wurde die Beschaffung eine reaktivgastaugliche Ionenstrahlanlage beantragt und bewilligt. Eine europäische Ausschreibung für diese Anlage erfolgte gemäß VOB. Den Zuschlag für Bau und Lieferung der Anlage erhielt die Fa. Scia systems. Bei der Anlage handelt es sich um ein neu zu konstruierendes System, d.h. eine Sonderausführung, das in dieser Form bisher nicht als serienmäßiges Produkt angeboten wird. Im Zuge der Konstruktion der Anlage (v.a. Sonderausführung des Bewegungssystems, Carrier-Haltesystem) hat sich ergeben, dass die Beladung mit Substraten mit geometrischen Dimensionen von 1000 mm x 1000 mm x 300 mm und einer Masse von 300 kg + 200 kg Carrier nur mit einem speziell ausgelegten Substrathandler möglich ist. Die Substrate müssen zunächst auf einem Carrier montiert werden. Um das Substrat in die Anlage einzuführen, ist eine Schwenkung des Carriers um 180° erforderlich. Danach muss der Carrier auf eine Beladehöhe von ca. 3 m angehoben werden und anschließend in die Anlage transferiert werden.

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Leistungen nach Losen (1)

  • LOT-0000 · Beschaffung eines Substrathandlers für die Ionenstrahlanlage RIBF1000

    Im Rahmen einer SAB/EFRE-Investitionsmaßnahme wurde die Beschaffung eine reaktivgastaugliche Ionenstrahlanlage beantragt und bewilligt. Eine europäische Ausschreibung für diese Anlage erfolgte gemäß VOB. Den Zuschlag für Bau und Lieferung der Anlage erhielt die Fa. Scia systems. Bei der Anlage handelt es sich um ein neu zu konstruierendes System, d.h. eine Sonderausführung, das in dieser Form bisher nicht als serienmäßiges Produkt angeboten wird. Im Zuge der Konstruktion der Anlage (v.a. Sonderausführung des Bewegungssystems, Carrier-Haltesystem) hat sich ergeben, dass die Beladung mit Substraten mit geometrischen Dimensionen von 1000 mm x 1000 mm x 300 mm und einer Masse von 300 kg + 200 kg Carrier nur mit einem speziell ausgelegten Substrathandler möglich ist. Die Substrate müssen zunächst auf einem Carrier montiert werden. Um das Substrat in die Anlage einzuführen, ist eine Schwenkung des Carriers um 180° erforderlich. Danach muss der Carrier auf eine Beladehöhe von ca. 3 m angehoben werden und anschließend in die Anlage transferiert werden.

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