Vollautomatisches elektrochemisches Metallabscheidungssystem für Wafer

Status
Vergeben
Angebotsfrist
20.04.2026, 08:00 (Europe/Berlin)
Geschätzter Auftragswert
Nicht angegeben
Lose
1
Auftraggeber
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12Profil ansehen
Erfüllungsregion
Sachsen, Deutschland
Verfahren
Verhandlungsverfahren mit Aufruf
Auftragsart
Lieferleistung
Veröffentlicht
19.03.2026
Bekanntmachungsnummer
191862-2026
Verfahrensnummer
210595d3-be30-4c2a-b1ed-0fc10c872274
CPV-Codes
31712100 · Mikroelektronische Maschinen und Geräte

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Kurzbeschreibung

Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein vollautomatisches System zur elektrochemischen Metallabscheidung (ECD) für Wafer-Substrate. Das Gerät ist für komplexe Prozesse wie die Kupferfüllung von Silizium-Durchkontaktierungen (TSV) und die Erstellung von Redistribution Layers (RDL) ausgelegt. Die Auftragsdauer für die Lieferung und Inbetriebnahme ist auf 60 Tage angesetzt.

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Leistungsbeschreibung

Fully Automated Wafer Electro Chemical Metal Plating Tool (IZM-140)

Leistungen nach Losen (1)

  • LOT-0000 · Fully Automated Wafer Electro Chemical Metal Plating Tool (IZM-140) - PR1163163-3460-P

    1 System: Fully Automated Wafer Electro Chemical Metal Plating Tool (IZM-140) Die folgende Gerätespezifikation definiert ein vollautomatisches Werkzeug für die elektrochemische Abscheidung (ECD) verschiedener Metallschichten auf Wafer-Substraten. Der Schwerpunkt liegt auf Bumps mit hohem Aspektverhältnis, Redistribution Layers (RDL) und der Kupferfüllung von Silizium-Durchkontaktierungen (TSV) mit hohem Aspektverhältnis. Die Wafer-Substrate bestehen aus Silizium und/oder Glas, haben Durchmesser von 200 und 300 mm und eine Dicke von bis zu 2 mm. Vor dem Prozess werden die Wafer in Front Opening Unified Pods (FOUPs) zum Werkzeug transportiert, die vom Bediener manuell auf die jeweiligen Ladeöffnungen gesetzt werden. Das neue Werkzeug muss in der Lage sein, die folgenden Schritte vollautomatisch auszuführen: • Entladen der vorgesehenen Wafer aus dem FOUP • Durchführen der Nassprozesse • Entladen der Wafer zurück in ihre Ausgangsposition im FOUP Die Programmierung von Rezepturen muss innerhalb eines für Forschung und Entwicklung (F&E) erforderlichen angemessenen Bereichs von Optionen und Parametern möglich sein. Das mit der neuen ECD-Kammergeneration für galvanische Prozesse zu beschaffende System ermöglicht die flexible Metallabscheidung von Säulen mit hohem Aspektverhältnis, TSV (vollständige Füllung/Auskleidung), Damascene-RDL/Vias (z. B. für Hybridbonding) sowie hochdichte RDLs mit Linien-/Abstandsabständen von < 1 µm für 300-mm-BEOL-Prozesse, wobei die Handhabung die Verarbeitung von verdünnten und gebondeten Wafern und Glaswafern (2,5D/3D-Systeme) mit hoher Verformung und Wölbung ermöglicht. Das Werkzeug muss die Galvanisierung und Füllung von höheren Aspektverhältnissen und größeren Volumina ermöglichen. Die für diese neuen Anwendungen erforderlichen Verbindungsmetalle sind Cu, Ni, SnAg, Au und optional In. Optionale Features: - Ausgedünnter Wafer-Dickenbereich von 200 und 300 mm (Si oder Glas): 300 ... 600 µm (LV- Pos. 1.19.) - Maschine ist für Wafer-Flip vorbereitet (LV- Pos. 1.33.) - Roboter mit Kanten-Greifer-Endeffektor (LV- Pos. 1.34.) - Chemische Vorreinigung und Vorbefeuchtung mit deionisiertem Wasser für Resistmuster (LV- Pos. 2.21.) - Inline-Inspektion und Reinigung von versiegelten Ringkontakten (LV- Pos. 2.22.) - Indium-Muster-Galvanisierung (LV- Pos. 2.28.) - Einzelwafer-Sprühverfahren (LV- Pos. 2.31.) - 2 x Tanks mit einem Fassungsvermögen von jeweils mindestens 10 Litern für verschiedene Vorreinigungschemikalien (LV- Pos. 2.32.) - Rückgewinnungsmodus (LV- Pos. 2.33.) - Überlaufschutz (LV- Pos. 2.34.) - DI-Wasserreinigung (LV- Pos. 2.35.) - N2-Trocknung (LV- Pos. 2.36.) - Einzelwafer (LV- Pos. 2.82.) - Tankvolumen von ca. 50 Litern für Elektrolyt (LV- Pos. 2.83) - N2-Spülung (LV- Pos. 2.84.) - Tankheizung/Kühlung 20 °C bis 60 °C / +-2 °C (LV- Pos. 2.85.) - Überlaufschutz für Tank und Kammer (LV- Pos. 2.86.) - Inline-Filtergehäuse (LV- Pos. 2.87.) - Gleichstromversorgung / stufenweise einstellbar Ampere Auflösung / bis zu 50 Ampere (LV- Pos. 2.88.) - Lebensdauer des Kontaktrings > 20.000 Wafer / 2 mm Dichtungsposition / siehe Anhang (LV- Pos. 2.89.) - DI-Wasserspülung (LV- Pos. 2.90.) - Inertanoden (LV- Pos. 2.91.) - Kantenwulstentfernung einstellbar in einem Bereich von 2 mm bis 5 mm (LV- Pos. 2.108)

Anforderungen an deinen Betrieb

Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion stipulated by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents

Vergabeunterlagen

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Anforderungen

Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion stipulated by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents

Änderungen und Bieterfragen

1 Eintrag
  1. 05.08.2026VergabebekanntmachungBekanntmachung 543453-2026
Vergleichbare Verfahren163vergeben oder Frist abgelaufen
Mit erfasstem Zuschlag59 verschiedene Auftragnehmer
ZuschlagssummeMedian
Zuschlag zu SchätzwertMedian, 4 Vergaben

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ASATV Systems GmbHDresden3208.09.2026107 Tsd. €steigend
AUAP und S International GmbHDonaueschingen2201.09.2026 - steigend
ACAccretechMünchen2225.08.2026 - steigend
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SGSENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbHKrailling2103.08.2026 - steigend
KCKLA CorporationMilpitas, CA2120.07.2026 - steigend
VGVeeco GmbHAschheim2024.08.2026 - steigend
SSScia Systems GmbHChemnitz2002.07.2026 - steigend
CTCrystec Technology Trading GmbHAltötting1127.08.2026 - steigend

Wer schreibt solche Vergaben aus?

Regionen: Sachsen (58) · Bayern (21) · Baden-Württemberg (19) · Nordrhein-Westfalen (17) · Brandenburg (8) · Sachsen-Anhalt (7)

Laufende Rahmenverträge

bundesweit

Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12

Aktiv seit 2023 · 250 Verfahren
Profil öffnen
Verfahren pro Jahr87Ø seit 2023
Ø Auftragswertgeschätzt, laut Bekanntmachung
VergebenVerfahren mit Zuschlag
RahmenverträgeAnteil an Verfahren
Verfahren je Woche · 250 seit 2023Spitze KW 19 · 2026 · 13

Leistungsbereiche

Top 5 nach Verfahren

Erfüllungsorte

nach Verfahren

Bisherige Auftragnehmer

Zuschläge dieses Auftraggebers, alle Leistungsbereiche
EGEV Group E. Thallner GmbH510.07.2026 -
KTKeysight Technologies320.08.2026 -
NGNTT Germany AG & Co. KG311.08.2026 -
ASATV Systems GmbH208.09.2026 -
AUAP und S International GmbH201.09.2026 -
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HIHKL Ingenieurgesellschaft mbH224.08.2026760 Tsd. €
VFVebego Facility Services B.V. & Co. KG217.07.2026 -

Laufende Rahmenverträge

nach voraussichtlichem Vertragsende
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    20.01.2025noch 4 Monate14.01.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q3 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Rahmenvertrag für Zeitarbeitskräfte in IT, Verwaltung sowie Facility Management und Servicetop itservices AG +8 weitereFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    11.03.2025noch 6 Monate14.03.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q3 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Digitalmarketing-Dienstleistungen für die AcademyDACHCOM.DE GmbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    23.05.2025noch 6 Monate31.03.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q3 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Rahmenvertrag für Arbeitsplatz- und MultifunktionsdruckerKonica Minolta Business Solutions Deutschland GmbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    16.06.2025noch 7 Monate30.04.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q4 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Executive-Search-Dienstleistungen für Führungskräfte in IT und VerwaltungKA Resources Recruitment SL +1 weitereFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    02.06.2025noch 8 Monate31.05.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q4 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Rahmenvertrag für Beratung zur Technologievermarktung und -verwertungLZE GmbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    03.06.2024noch 8 Monate31.05.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q4 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Fachplanung Elektrotechnik für Sanierungs- und UmbauprojekteREHATEC Planungsgesellschaft mbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    400 Tsd. €
    31.07.2025noch 9 Monate30.06.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q4 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Qualifizierungsprogramm für Führungskräfte bei der Fraunhofer-GesellschaftAuftragnehmer nicht veröffentlichtFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    06.11.2023noch 9 Monate30.06.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q4 2026 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Wissenschaftlich-technische Unterstützung zur Zuverlässigkeit mikroelektronischer Komponenten und SystemeBerliner Nanotest und Design GmbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    11.07.2025noch 10 Monate11.07.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q1 2027 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet
  • Fachplanungsleistungen für Heizungs-, Lüftungs-, Sanitär- und Klimatechnik im BestandREHATEC Planungsgesellschaft mbHFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, Deutschland
    800 Tsd. €
    31.07.2025noch 10 Monate31.07.2027
    Neuausschreibung erwartet ca. Q1 2027 · Ende vsl., aus dem geplanten Zeitraum abgeleitet

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