Teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Fraunhofer ENAS, das Institut für Elektronische Nanosysteme in Chemnitz, beschafft ein teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie. Das Gerät soll in einem Reinraum installiert werden und 6-, 7- und 9-Zoll-Masken durch Austausch des Chucks reinigen können; die Lieferung soll schnellstmöglich erfolgen, die Angebotsfrist endet am 30. September 2026.

KI-Zusammenfassung · Maßgeblich ist die Originalbekanntmachung.

Informationsdienst der Deutschen eVergabe 28.08.2026 07:28 Uhr 1.) die Bezeichnung und die Anschrift der zur Angebotsabgabe auffordernden Stelle, der den Zuschlag erteilenden Stelle sowie der Stelle, bei der die Angebote oder Teilnahmeanträge einzureichen sind: der ausschreibenden Stelle Fraunhofer ENAS Telefon +49 37145001234 Institut für Elektronische Nanosysteme Telefax Technologie-Campus 3 09126 Chemnitz E-Mail einkauf@enas.fraunhofer.de der Stelle, an die die konventionellen Angebote zu richten sind: Fraunhofer ENAS Institut für Elektronische Nanosysteme Technologie-Campus 3 09126 Chemnitz 2.) Verfahrensart Öffentliche Ausschreibung nach UVgO 3.) die Form, in der Teilnahmeanträge oder Angebote einzureichen sind: Elektronische Angebote sind zugelassen Textform (§ 126b BGB) ist erlaubt Digitale Signatur wird nicht unterstützt 4.) gegebenenfalls in den Fällen des § 29 Absatz 3 die Maßnahmen zum Schutz der Vertraulichkeit und die Informationen zum Zugriff auf die Vergabeunterlagen: Das Vergabesystem der Deutschen eVergabe verwendet für die Verschlüsselung Ihrer Daten während der Übertragung zum Server die aktuellste Version des TLS-Verschlüsselungsverfahrens. [https-Übertragung]. Die Unterlagen können Sie unter www.deutsche-evergabe.de herunterladen. 5.) Art und Umfang der Leistung sowie den Ort der Leistungserbringung: Aktenzeichen PR1161799_bw Titel teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken Beschreibung Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. ausf. Beschreibung Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Details siehe Dokument "PR1161799_Leistungsverzeichnis" Erfüllungsort: 09126 Chemnitz 6.) gegebenenfalls die Anzahl, Größe und Art der einzelnen Lose: losweise Vergabe: ist nicht vorgesehen 7.) gegebenenfalls die Zulassung von Nebenangeboten: Zulässigkeit Die Abgabe von Nebenangeboten ist nicht erlaubt. 8.) Etwaige Bestimmungen über die Ausführungsfrist: Laufzeit/Ausführungsfrist: schnellstmögliche Lieferung Seite 1 / 2 Informationsdienst der Deutschen eVergabe 28.08.2026 07:28 Uhr Dieser Auftrag kann nicht verlängert werden. 9.) die elektronische Adresse, unter der die Vergabeunterlagen abgerufen werden können oder die Bezeichnung und die Anschrift der Stelle, die die Vergabeunterlagen abgibt oder bei der sie eingesehen werden können: Die Vergabeunterlagen stehen digital über die Deutsche eVergabe zur Verfügung. Sie finden das Verfahren unter folgendem Link: https://www.deutsche-evergabe.de/dashboards/dashboard_off/97130fda-9a5b-4795-8b90-ee4c7eb27244 10.) die Teilnahme- oder Angebots- & Bindefrist: Angebotsfrist Die Frist endet am 16.09.2026 um 12:00 Uhr. Bindefrist Die Bindefrist für abgegebene Angebote endet am 16.10.2026. 11.) die Höhe etwa geforderter Sicherheitsleistungen: keine allgemeinen Angaben 12.) die wesentlichen Zahlungsbedingungen oder Angabe der Unterlagen, in denen sie enthalten sind: siehe Dokument "PR1161799_kaufmännische Bedingungen_commercial terms" 13.) die mit dem Angebot oder dem Teilnahmeantrag vorzulegenden Unterlagen, die die Auftraggeber für die Beurteilung der Eignung des Bewerbers oder Bieters verlangen: - Firmenprofil - Umsatz der Jahre 2022 - 2024 (2025) - signierte Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 GWB 14.) die Angabe der Zuschlagskriterien, sofern diese nicht in den Vergabeunterlagen genannt werden: Die Zuschlagskriterien sind in den Vergabeunterlagen aufgeführt. Sonstiges: Zeitpunkt der Publikation: 28.08.2026 - 08:00 Uhr Seite 2 / 2 Informationsdienst der Deutschen eVergabe 10.09.2026 14:31 Uhr Änderungsbekanntmachung (10.09.2026 14:31) Auftraggeber Fraunhofer ENAS Aktenzeichen PR1161799_bw Titel teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken Änderungen Sektion Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge Anstatt: 16.09.2026 um 12:00 Uhr. Muss es heißen: 30.09.2026 um 12:00 Uhr. Sektion Öffnung der Angebote Anstatt: 16.09.2026 um 12:00 Uhr. Muss es heißen: 30.09.2026 um 12:00 Uhr. Begründung: Aufgrund eines Bieterwunsch wird die Angebotsfrist bis zum 30.09.2026 um 12 Uhr verlängert Seite 1 / 1