Hochvakuum-Beschichtungssystem für Elektronenmikroskopie und FIB-Präparation

Leistungen nach Losen (1)

• LOT-0001 · Hochvakuum-Beschichtungssystem

  Im Zuge der Anschaffung hochspezialisierter Ausrüstung für die Präparationslabore der zentralen Analytik im INCYTE-Forschungsneubau wurde der Bedarf an einem Hochvakuum-Beschichtungssystem deutlich. Das Gerät soll Proben für die Raster- und Transmissionselektronenmikroskopie sowie für die FIB-Präparation metallisch besputtern und mit Kohleschichten versehen und sie anschließend ohne Atmosphärenkontakt an die vorhandene Vakuum-Transferkette der zentralen Analytik übergeben. Vorrausetzungen: -Flansche serienmäßig in die Prozesskammer integriert sind -das erreichbare Kammervakuum von ? 2 × 10?6 mbar, erzeugt von einem vollständig integrierten ölfreien Pumpsystem aus 4-stufiger Membranpumpe (13 l/min) und Turbomolekularpumpe (67 l/s). - die gleichzeitige Bestückung der Kammer mit einer Sputter- und einer Kohlefadenquelle. Beide Verfahren sind in einem Gerät ohne Brechung des Vakuums nutzbar und lassen sich als programmierte Sequenz automatisch und reproduzierbar nacheinander ausführen - Ein integrierter Schichtdickenmonitor auf Basis der Quarzkristallmessung kontrolliert die Schichtdicke in situ mit einer Genauigkeit von 0,1 nm. Die um 25° gekippten Quellen sorgen zusammen mit der Tischrotation für eine homogene Beschichtung, das Kohlefaden-Pulsverfahren liefert artefaktfreie, reproduzierbare dünne Kohleschichten, der Sputterstrom ist stufenlos bis 150 mA einstellbar, und die Prozessführung erfolgt rezeptbasiert über einen integrierten Touchscreen.

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