Lieferung einer CVD-Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung
- Status
- Vergeben
- Angebotsfrist
- Nicht angegeben
- Geschätzter Wert
- Nicht angegeben
- Lose
- 1
- Auftraggeber
- Universität Duisburg-Essen
- Erfüllungsregion
- Nordrhein-Westfalen, Deutschland
- Verfahren
- Verhandlungsverfahren ohne Aufruf
- Auftragsart
- Lieferleistung
- Veröffentlicht
- 29.06.2026
- CPV-Codes
- Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) (38000000)
- Bekanntmachung
- ted.europa.eu
- Bekanntmachungsnummer
- 444415-2026
- Verfahrensnummer
- 943cb18c-2e0e-4eb2-9587-2c728a453f25
Fragenkatalog
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Kurzbeschreibung
Die Universität Duisburg-Essen schreibt die Lieferung und Inbetriebnahme einer CVD-Anlage (Chemical Vapor Deposition) aus. Das Gerät dient der Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu einer Größe von 4 Zoll. Es handelt sich um ein einzelnes Los für den Forschungsbetrieb.
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Leistungsbeschreibung
Lieferung einer CVD-Anlage
Leistungen nach Losen (1)
LOT-0001 · CVD-Anlage
Lieferung einer CVD-Anlage (CVD: chemical vapor deposition = chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf verschiedenen Substraten mit Substratgrößen bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und inbetriebnahme. Die genauen Spezifikationen können der Leistungsbeschreibung entnommen werden.
Wie wird das Angebot bewertet?
Kriterien ohne Loszuordnung
- Preis
- 100 %
Vergabeunterlagen
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