PVD-Sputter-Cluster für Forschungseinrichtung
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein PVD-Sputter-Cluster für Forschungszwecke. Es handelt sich um eine Einzelbeschaffung eines hochspezialisierten Vakuumbeschichtungssystems. Das Verfahren wird im Rahmen eines Verhandlungsverfahrens mit Teilnahmewettbewerb durchgeführt.
Vollständige Beschreibung anzeigen
PVD-Sputter-Cluster (IMS-01)
Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht einen Anbieter für ein sogenanntes PVD-Sputter-Cluster. Dabei handelt es sich um eine hochkomplexe Anlage zur physikalischen Gasphasenabscheidung, die in der Forschung zur Beschichtung von Oberflächen unter Vakuum eingesetzt wird. Da es sich um ein spezialisiertes Gerät für wissenschaftliche Zwecke handelt, erfolgt die Vergabe über ein Verhandlungsverfahren, bei dem technische Qualität und Nachhaltigkeit eine zentrale Rolle spielen. Der Auftrag umfasst die Lieferung und Inbetriebnahme eines einzelnen Systems für den Standort in Nordrhein-Westfalen.
Aufteilung in Lose
1 Lot1 pc. PVD-Sputter-Cluster
Zuschlagskriterien
4 Kriterien- quality45%
Technische Ausführung
- quality10%
Lieferzeit
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price35%
Preis
Zeitplan
- 19. Mai 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert