Positionierungssystem für experimentelle Mikromagnetisierungsprozesse

Was wird ausgeschrieben
Das Deutsche Zentrum für Luft- und Raumfahrt (DLR) schreibt die Beschaffung eines hochpräzisen Positionierungssystems für Mikromagnetisierungsprozesse aus. Das System besteht aus einer XYR-Stage für laterale Bewegungen und Rotation sowie einer Z-Achse für vertikale Annäherung im Submikrometerbereich. Ziel ist die Erprobung eines Magnetisierungskonzepts für Dünnfilmschichten auf 150 mm Wafern.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Mit mikrometergenauer Positionierung von magnetischen Schreibköpfen sollen gezielt permanentmagnetische Dünnfilmschichten magnetisiert werden können. Zweck des Positionierungssystems ist dabei die Erprobung eines Magnetisierungskonzepts. Die mikrometergenaue relative Positionierung eines magnetischen Schreibkopfs auf den zu magnetisierenden Substraten soll in einem Gesamtsystem über eine XYR-Stage (laterale Translation sowie Rotation des Substrats) sowie Z-Achse (vertikale Translation) erfolgen (siehe Systemübersicht.pdf). Letztere wird oberhalb des Substrats an einer spezifizierten Traversen montiert, welche die Magnetisierungsköpfe aufnehmen kann. Sie dient zur vertikalen Annäherung im Submikrometerbereich sowie zur definierten Kontaktherstellung des Schreibkopfs mit dem Substrat, um Magnetisierungen durchzuführen. Beide Teilsysteme – XYR-Stage und Z-Achse – müssen derart aufeinander abgestimmt sein, dass sie die spezifizierte Positionierungspräzision im Gesamtsystem erreichen können und Trajektorienbewegungen ermöglichen. Neben einer ausgerüsteten Z-Achse sollen an der spezifizierten Traversen Aufnahmen für zwei weitere, identische Schreibköpfe für eine potenzielle Nachrüstung eingeplant und mitgeliefert werden. Die konstruierten, mechanischen Aufnahmen müssen so ausgelegt sein, dass jeder Schreibkopf jede Position auf einem 150 mm Wafer erreichen kann. Alle Rahmenbedingungen und Anforderungen der Teilsysteme sind nachfolgend spezifiziert und teilweise aus anhängigen Dokumenten zu entnehmen.
Das Deutsche Zentrum für Luft- und Raumfahrt (DLR) sucht ein spezialisiertes Positionierungssystem, um magnetische Schreibköpfe mikrometergenau über Substraten zu bewegen. Das System soll es ermöglichen, permanentmagnetische Schichten gezielt zu magnetisieren, um neue Konzepte in der Forschung zu erproben. Dabei werden eine XYR-Einheit für die horizontale Bewegung und Drehung sowie eine Z-Achse für die vertikale Zustellung benötigt, die auch eine definierte Kontaktherstellung zum Substrat erlaubt. Zusätzlich müssen mechanische Aufnahmen für zwei weitere Schreibköpfe integriert werden, um das System später erweitern zu können. Die gesamte Anlage muss so ausgelegt sein, dass sie einen 150 mm Wafer vollständig bearbeiten kann.
Zentrale Anforderungen
1 Punkte- Einhaltung der Ausschlussgründe gemäß §§ 123 und 124 GWB
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen.
Eignungskriterien (Volltext)
Der Katalog der Ausschlussgründe ergibt sich aus §§ 123 und 124 GWB. Der Auftraggeber kann eine Aufklärung über Inhalte der Angebote und Eignungsunterlagen betreiben und Unterlagen nachfordern. Die Grundsätze der Gleichbehandlung und Nichtdiskriminierung werden dabei beachtet.
Aufteilung in Lose
1 LotMit mikrometergenauer Positionierung von magnetischen Schreibköpfen sollen gezielt permanentmagnetische Dünnfilmschichten magnetisiert werden können. Zweck des Positionierungssystems ist dabei die Erprobung eines Magnetisierungskonzepts. Die mikrometergenaue relative Positionierung eines magnetischen Schreibkopfs auf den zu magnetisierenden Substraten soll in einem Gesamtsystem über eine XYR-Stage (laterale Translation sowie Rotation des Substrats) sowie Z-Achse (vertikale Translation) erfolgen (siehe Systemübersicht.pdf). Letztere wird oberhalb des Substrats an einer spezifizierten Traversen montiert, welche die Magnetisierungsköpfe aufnehmen kann. Sie dient zur vertikalen Annäherung im Submikrometerbereich sowie zur definierten Kontaktherstellung des Schreibkopfs mit dem Substrat, um Magnetisierungen durchzuführen. Beide Teilsysteme – XYR-Stage und Z-Achse – müssen derart aufeinander abgestimmt sein, dass sie die spezifizierte Positionierungspräzision im Gesamtsystem erreichen können und Trajektorienbewegungen ermöglichen. Neben einer ausgerüsteten Z-Achse sollen an der spezifizierten Traversen Aufnahmen für zwei weitere, identische Schreibköpfe für eine potenzielle Nachrüstung eingeplant und mitgeliefert werden. Die konstruierten, mechanischen Aufnahmen müssen so ausgelegt sein, dass jeder Schreibkopf jede Position auf einem 150 mm Wafer erreichen kann. Alle Rahmenbedingungen und Anforderungen der Teilsysteme sind nachfolgend spezifiziert und teilweise aus anhängigen Dokumenten zu entnehmen.
Zeitplan
- 7. Juli 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 10. Aug. 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung