Plasma-Aktivierungswerkzeug (IPMS-MRS14.3)
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein Plasma-Aktivierungswerkzeug vom Typ IPMS-MRS14.3. Das Beschaffungsobjekt umfasst ein Stück inklusive mehrerer Optionen: erweiterte Garantie (12 Monate), Wafer-Größenhandling (300 mm), Chuck für 300-mm-Wafer sowie Handhabung von getapeten Wafern mit Dicing-Rahmen. Die Lieferfrist beträgt 360 Tage.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Plasma Activation Tool (IPMS-MRS14.3)
Das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) in Dresden beschafft ein Plasma-Aktivierungswerkzeug für die Halbleiterfertigung. Bei diesem Werkzeug handelt es sich um ein Spezialgerät zur Plasmaaktivierung von Wafern, das in der Mikrosystemtechnik eingesetzt wird. Das Gerät muss Wafer mit einem Durchmesser von 300 mm verarbeiten können und verschiedene Optionen wie einen Chuck und die Handhabung von getapeten Wafern mit Dicing-Rahmen bieten. Die Vergabe erfolgt zu 50 % nach technischer Ausführung und zu 50 % nach Preis. Der Auftraggeber ist die Fraunhofer-Gesellschaft, eine der führenden Forschungsorganisationen in Europa.
Zentrale Anforderungen
3 Punkte- Nachweis einschlägiger zwingender und fakultativer Ausschlussgründe gemäß nationalem Recht
- Eignung gemäß Vergabeunterlagen
- Technische Fähigkeit zur Lieferung von Plasma-Aktivierungswerkzeugen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen. Verbindlich ist der Originaltext unten.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion stipulated by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Stück - Plasma Activation Tool (IPMS-MRS14.3) Option 1 (LV Pos. 2.1): Please offer an extended warranty of further 12 months (in total 24 month) Option 2 (LV Pos. 3.2): The tool should handle wafers with the size of Option 3 (LV Pos. 3.6): The equipment provides a chuck for wafer size of 300mm Option 4 (LV Pos. 3.8): The machine can handle a tape mounted wafer with dicing frame for 300mm wafer according to IPMS specification
Zuschlagskriterien
2 Kriterien- quality50%
technische Ausführung
- price50%
Preis
Zeitplan
- 20. Apr. 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 12. Mai 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung