Molekularstrahlepitaxieanlage mit optischer Interferenzlithografie

Die Ruhr-Universität Bochum sucht einen Anbieter für eine hochkomplexe Forschungsanlage, die zwei Verfahren kombiniert: die Molekularstrahlepitaxie, bei der Schichten auf Halbleiterkristalle aufgedampft werden, und die optische Interferenzlithografie, mit der präzise Strukturen auf Oberflächen erzeugt werden. Dieses Gerät ist für die physikalische Grundlagenforschung an der Universität bestimmt. Da es sich um eine hochspezialisierte Laborausrüstung handelt, ist die technische Spezifikation entscheidend für die Eignung. Die Lieferung soll innerhalb von 30 Tagen erfolgen.