Molekularstrahlepitaxieanlage mit optischer Interferenzlithografie

Die Ruhr-Universität Bochum sucht einen Anbieter für eine hochspezialisierte Laboranlage. Das Gerät kombiniert zwei Verfahren: die Molekularstrahlepitaxie, ein Verfahren zur Herstellung dünner kristalliner Schichten, und die optische Interferenzlithografie, eine Technik zur Erzeugung feiner Strukturen mittels Licht. Diese Anlage ist für die Forschung im Bereich der Materialwissenschaften oder Halbleitertechnik vorgesehen. Da es sich um ein offenes Verfahren handelt, können sich interessierte Unternehmen direkt auf die Ausschreibung bewerben.