Maskenloses UV-Direktlithographie-System für Reinraumanwendungen
Was wird ausgeschrieben
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena schreibt die Beschaffung eines kompakten Tischsystems zur maskenlosen UV-Direktlithographie aus. Das Gerät ist für den Einsatz in Forschung, Entwicklung und für das Prototyping von Mikro- und Nanostrukturen vorgesehen. Die Anforderungen umfassen sowohl rasterbasierte als auch vektorgestützte Belichtungsmodi für den Reinraumbetrieb.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena sucht ein spezialisiertes Tischgerät für die UV-Direktlithographie, das in Reinraumumgebungen eingesetzt werden soll. Das System wird für Forschungszwecke und zur Herstellung von Prototypen im Mikro- und Nanobereich benötigt und muss sowohl flächige als auch präzise linienbasierte Belichtungen ermöglichen. Interessierte Unternehmen müssen neben den technischen Spezifikationen verschiedene Eigenerklärungen zu Ausschlussgründen und zur Einhaltung des Thüringer Vergabegesetzes einreichen. Da es sich um ein hochspezialisiertes Laborgerät handelt, ist die Einhaltung der technischen Mindestanforderungen für eine erfolgreiche Teilnahme zwingend erforderlich.
Zentrale Anforderungen
6 Punkte- Einhaltung der Mindestspezifikationen gemäß Anlage 2
- Eigenerklärung zum Ausschreibungsverfahren (Anlage 4.1)
- Eigenerklärung zu Art. 5 k) Abs. 1 VO (EU) 833/2014 (Anlage 4.2)
- Eigenerklärung zu Ausschlussgründen gemäß § 123 GWB (Anlage 5)
- Eigenerklärung zu Ausschlussgründen gemäß § 124 GWB (Anlage 6)
- Eigenerklärung zum Thüringer Vergabegesetz (Anlage 7)
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen. Verbindlich ist der Originaltext unten.
Eignungskriterien (Volltext)
Der Angebotsausschluss erfolgt gemäß §§ 123, 124 GWB, §§ 56, 57 VgV sowie Artikel 5 k) Absatz 1 der Verordnung (EU) Nr. 833/2014 in der Fassung des Art. 1 Ziff. 23 der Verordnung (EU) 2022/576 des Rates vom 8. April 2022. Angebote, die die in der Leistungsbeschreibung geforderten Mindestspezifikationen/-forderungen nicht erfüllen, werden ebenfalls von der Wertung ausgeschlossen. Zur ordnungsgemäßen Bearbeitung der Ausschreibung sind schriftliche Erklärungen und Nachweise des Anbieters erforderlich. Auf Kapitel 5.1.9 dieser Bekanntmachung wird zusätzlich hingewiesen. Erfüllt das angebotene Produkt die Anforderungen der Ausschreibung nicht, so ist das Angebot von der Wertung auszuschließen. Die Erfüllung/Einhaltung der gestellten Mindestanforderungen muss aus dem Angebot oder dessen Anlagen (Datenblätter, zusichernde Eigenerklärungen etc.) ersichtlich sein. Sofern einzelne geforderte Leistungsparameter aus den Dokumentationen im Angebot nicht eindeutig und nachvollziehbar hervorgehen, und diese Informationen auch nicht nach ggfs. erfolgtem Aufklärungsgesuch des Auftraggebers eingereicht werden, führt dies zum Wertungsausschluss des Angebotes. Eigenerklärungen: • Eigenerklärung zum Ausschreibungsverfahren (Anlage 4.1) • Eigenerklärung zu Artikel 5 k) Absatz 1 der Verordnung (EU) Nr. 833/2014 in der Fassung des Art. 1 Ziff. 23 der Verordnung (EU) 2022/576 des Rates vom 8. April 2022 (Anlage 4.2) • Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von zwingenden Ausschlussgründen gemäß § 123 GWB (Anlage 5) • Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von zwingenden Ausschlussgründen gemäß § 124 GWB (Anlage 6) • Eigenerklärung zum Thüringer Vergabegesetz gemäß § 8 Abs. 1 S. 1 (Anlage 7) Liegen die Erklärungen und Nachweise innerhalb der benannten Frist nicht vollständig vor, wird das Angebot ausgeschlossen (§ 12a ThürVgG).
Aufteilung in Lose
1 LotBeschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2.
Zeitplan
- 22. Mai 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 25. Juni 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung