Vergabeentscheid
Zuschlag erteilt
Auftragsgewinner: Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Auftragswert
€191k
Zuschlag am
14. Juli 2026
Maskenloses UV-Direktlithographie-System für Forschung und Prototyping
Was wird ausgeschrieben
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena schreibt die Beschaffung eines kompakten UV-Direktlithographie-Systems für den Reinraumeinsatz aus. Das Gerät soll sowohl rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch vektorbasierte Direktbelichtung für Mikro- und Nanostrukturen ermöglichen. Die Ausschreibung erfolgt im offenen Verfahren und wird durch EU-Mittel gefördert.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena sucht ein spezielles Tischsystem für die UV-Direktlithographie, das in Reinräumen eingesetzt werden kann. Dieses Gerät wird in der Forschung und für die Herstellung von Prototypen in kleinen Serien benötigt, um sehr feine Mikro- und Nanostrukturen auf verschiedenen Oberflächen zu erzeugen. Das System muss zwei verschiedene Belichtungsarten beherrschen: eine flächige Belichtung und eine präzise, linienbasierte Belichtung. Da es sich um ein hochspezialisiertes Laborgerät handelt, ist die technische Spezifikation für die Eignung entscheidend.
Aufteilung in Lose
1 LotBeschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2.
Zuschlagskriterien
1 Kriterien- price
1
Zeitplan
- 15. Juli 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 14. Juli 2026Zuschlag erteiltZuschlag an Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH · €191k