Lieferung und Installation eines ToF-SIMS-Systems zur Oberflächenanalyse

Das System wird als zentrale Analyseplattform für hochaufgelöste chemische Oberflächencharakterisierung, bildgebende Analytik (2D-Imaging) sowie Tiefenprofilierung und 3D-Rekonstruktion eingesetzt. Es dient wissenschaftlichen und anwendungsnahen Fragestellungen in der industriellen und universitären Forschung sowie der Auftragsforschung und wird in Kooperationsprojekten mit Industriepartnern und Forschungseinrichtungen genutzt. Im Institut werden Proben mit stark variierenden Eigenschaften untersucht. Diese unterscheiden sich insbesondere hinsichtlich Materialklassen (z. B. Metalle und Legierungen, Halbleiter, Gläser, Keramiken, Polymere), Geometrie, Oberflächenzustand, Kontaminations- und Schichtsystemen sowie analytischer Fragestellungen. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf der Analyse von Oberflächen und Schichtsystemen, inklusive der Identifikation komplexer Spezies und der quantitativen/vergleichenden Bewertung von Signalen über Messreihen hinweg. Zur Sicherstellung reproduzierbarer und nachvollziehbarer Ergebnisse muss das System einen stabilen UHV-Betrieb, eine hohe Massenauflösung/Massengenauigkeit, eine hohe laterale Auflösung für bildgebende Verfahren sowie einen kontrollierten Materialabtragung für Tiefenprofile bereitstellen. Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss mindestens folgende Komponenten/Funktionen umfassen (funktionsorientiert; Umsetzung herstellerunabhängig zulässig, sofern Anforderungen erfüllt sind): - UHV-Analysekammer (Rezipient) für optimierte Vakuumbedingungen incl. Probenschleuse, geeigneter Probenhandhabung und Beobachtungsmöglichkeit in Analyseposition (Kamera/Optik oder funktional gleichwertig). - ToF-Massenspektrometer einschließlich MS/MS-Funktionalität (Tandem-MS) oder funktional gleichwertiger Lösung zur verbesserten Identifikation/Strukturaufklärung. - Analyse-Ionenquelle (z. B. Bi-LMIG-basiert oder funktional gleichwertig) zur hochauflösenden, bildgebenden SIMS-Analyse. - Sputter-Ionenquelle(n) für kontrollierten Materialabtrag/Tiefenprofilierung (z.B. Cs und O2/Ar Ionenkanone oder funktional gleichwertig) mit stabiler Stromabgabe über lange Messzeiten. - Cluster-Ionenquelle (z. B. Ar-Cluster, ggf. O2-Cluster oder funktional gleichwertig), inkl. Option zur Analyse/Imaging-Nutzung, soweit gefordert. - FIB-Funktion zum Schneiden und zur Tomografie in der Analyseposition mittels zusätzlicher LMIG- Quelle - Ladungskompensation (Electron Flood Gun oder funktional gleichwertig). - Probenhalter-Grundausstattung inkl. Montagematerial sowie definierte Möglichkeiten zur Aufnahme großer Proben (insb. Wafer bis 300 mm). - Gasinstallationen/Versorgung für die im System integrierten Quellen (Arbeitsgase) inkl. erforderlicher sicherheitstechnischer Komponenten. - Steuer- und Auswertesoftware inkl. Lizenzen; Offline-Auswertung auf separaten Rechnern muss möglich sein. - Steuerrechner (Windows 11 Pro, LAN-Anbindung, Remote-Nutzung oder gleichwertige), kompatible Bereitstellung gemäß IT-Anforderungen.