Hochtemperatur-Ionenimplanter (200 mm)
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft einen Hochtemperatur-Ionenimplanter für 200-mm-Wafer. Bei diesem Spezialgerät handelt es sich um ein hochpräzises Halbleiterfertigungsgerät zur Ionenimplantation, das in der Forschung und Entwicklung eingesetzt wird. Das Verfahren ist eine Verhandlung mit Aufrufs (neg-w-call), der Zuschlag erfolgt zu 35 % auf den Preis und zu 65 % auf die technische Beschreibung.
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Hochtemperatur-Ionenimplanter (200 mm)
Die Fraunhofer-Gesellschaft (Einkauf B12 München) beschafft einen Hochtemperatur-Ionenimplanter für 200-mm-Wafer. Dies ist ein hochspezialisiertes Gerät aus dem Bereich der Halbleiterfertigung, das Ionen in Halbleitermaterialien implantiert — ein Verfahren, das in der Chip- und Mikrosystemtechnik verwendet wird. Der Auftrag umfasst die Lieferung einer einzelnen Maschineneinheit. Das Zuschlagsverfahren legt großen Wert auf die technische Qualität (65 %), sodass neben dem Preis auch die technische Beschreibung entscheidend ist. Fraunhofer ist eine der größten Forschungsorganisationen Europas und betreibt an zahlreichen Standorten angewandte Forschung.
Zentrale Anforderungen
5 Punkte- Erfahrung mit Halbleiterfertigungsgeräten
- Technische Kompetenz im Bereich Ionenimplantation
- Lieferung und Installation von Hochpräzisionsgeräten
- Nachweis technischer Fachkunde
- Geeignete Service- und Wartungsfähigkeit
Eignungskriterien von KI ermittelt, keine offiziellen Angaben vom Auftraggeber vorhanden.
Aufteilung in Lose
1 Lot1 St. Hochtemperatur-Ionenimplanter (200 mm)
Zuschlagskriterien
2 Kriterien- price35%
Preis
- quality65%
Technische Beschreibung
Zeitplan
- 30. Apr. 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert