Beschaffung eines FIB-SEM-Dualbeam-Systems für die Halbleiteranalyse

1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren sowie Resists und für die Halbleitertechnik typischen Prozessprodukten eingesetzt. Programmierbare und automatisierte Routinen sollten nach Möglichkeit konfigurierbar sein. Im Rahmen der Ausschreibung soll das neue System installiert werden. Darüber hinaus sind am Aufstellungsort des Systems Raummessungen durchzuführen. Die Raummessungen sollten Bodenvibrationen, akustische Störungen und magnetische Störungen umfassen. Der Bieter verpflichtet sich, durch entsprechende Vorbereitungsmaßnahmen am Aufstellungsort sicherzustellen, dass die Gerätespezifikationen und die Prozessspezifikation (Prozessgas) eingehalten werden. Optionen - Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf - 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt - Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien