Beschaffung eines FIB-SEM Dualbeam-Systems für die Halbleiteranalyse
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (SEM). Das System dient der Nanostrukturierung sowie der Analyse von Halbleitermaterialien und Polymeren. Die Vertragslaufzeit beträgt 360 Tage.
Vollständige Beschreibung anzeigen
FIB & SEM system (HHI-01)
Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht für ihre Forschungsarbeit ein hochspezialisiertes Analysegerät, ein sogenanntes FIB-SEM Dualbeam-System. Dabei handelt es sich um eine Kombination aus einem fokussierten Ionenstrahl (FIB) und einem Rasterelektronenmikroskop (SEM), mit dem kleinste Strukturen im Nanometerbereich auf Halbleitern und Polymeren untersucht und bearbeitet werden können. Das Gerät ist für die Halbleitertechnik vorgesehen und muss unter anderem programmierbare Automatisierungsfunktionen bieten. Der Auftrag hat eine Laufzeit von etwa einem Jahr und wird nach einem Mix aus technischer Qualität, Nachhaltigkeit und Preis vergeben.
Zentrale Anforderungen
2 Punkte- Einhaltung der zwingenden und fakultativen Ausschlussgründe nach nationalem Recht
- Erfüllung der technischen Spezifikationen gemäß Vergabeunterlagen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen. Verbindlich ist der Originaltext unten.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren sowie Resists und für die Halbleitertechnik typischen Prozessprodukten eingesetzt. Programmierbare und automatisierte Routinen sollten nach Möglichkeit konfigurierbar sein. Optionen - Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf - 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt - Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- quality50%
Technik
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price40%
Preis
Zeitplan
- 25. Juni 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 24. Juli 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung