Beschaffung eines Facetten-Passivierungs- und Beschichtungssystems für Halbleiter
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt die Lieferung eines spezialisierten Beschichtungssystems zur Facettenpassivierung von Hochleistungslasern aus. Das System dient der Abscheidung optischer Funktionsschichten auf Halbleiterbauelementen zur Vermeidung thermischer Schäden. Die Vertragslaufzeit ist auf 450 Tage angesetzt.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Facet passivation and coating system (HHI-08)
Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht ein hochspezialisiertes technisches System, um die Oberflächen von Hochleistungslasern zu beschichten und zu passivieren. Durch diese spezielle Beschichtung werden empfindliche Halbleiterbauelemente vor Überhitzung und Defekten geschützt, die bei herkömmlichen Herstellungsverfahren entstehen könnten. Das Gerät ist für den Einsatz in der Forschung und Entwicklung vorgesehen. Der Auftrag umfasst die Lieferung und Inbetriebnahme des Systems innerhalb eines Zeitraums von 450 Tagen. Die Vergabe erfolgt auf Basis einer Kombination aus technischer Qualität, Nachhaltigkeitsaspekten und dem Preis.
Zentrale Anforderungen
2 Punkte- Einhaltung der zwingenden und fakultativen Ausschlussgründe nach nationalem Recht
- Erfüllung der technischen Spezifikationen gemäß Vergabeunterlagen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Facet passivation and coating syste Das ausgeschriebene System ist für die Abscheidung optischer Funktionsbeschichtungen auf optoelektronischen Halbleiterbauelementen vorgesehen, insbesondere für Antireflexbeschichtungen und die Facettenpassivierung von Hochleistungslasern. Bei Hochleistungslasern können Defekte an der Facettenoberfläche zu lokalen Hotspots und thermischen Schäden führen. Herkömmliche Sputterverfahren arbeiten mit vergleichsweise hohen Ionenenergien, was empfindliche Facettenoberflächen beeinträchtigen kann. Die plasmaunterstützte Abscheidung mittels Elektronenzyklotronresonanz (ECR) ermöglicht eine deutliche Reduzierung der Ionenprallenergie durch die Entkopplung der Plasmagenerierung von der Ionenbeschleunigung, was eine schonende und zuverlässige Beschichtung ermöglicht. Aus diesem Grund ist ein ECR-basiertes Beschichtungssystem für die vorliegende Anwendung zwingend erforderlich. Optionen Extended Warranty Spectral System Measurement range Accuracy - thin films 5-20 nm Accuracy - medium thickness 20-200 nm Optical constants Flip mechanism Cooling water
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- quality50%
Technik
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price40%
Preis
Zeitplan
- 20. Juli 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 3. Juli 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung