TED·319667-2026·Schließt in 17 Tagen

Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für Metallbeschichtung

Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, GermanyVeröffentlicht 11. Mai 2026
Auftragswert
~€450k
Geschätzt · Konfidenz low
Einreichungsfrist
15. Juni 2026
17 Tage verbleibend
Leistungsbeschreibung

Was wird ausgeschrieben

Das Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF) in München beschafft eine elektronenstrahlgestützte Verdampfungsanlage zur Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern. Die wassergekühlte Hochvakuum-Anlage ermöglicht die Abscheidung von Metallen im vertikalen und schrägen Winkel. Die Lieferung und Inbetriebnahme ist innerhalb von 210 Tagen nach Auftragserteilung vorgesehen.

Vollständige Beschreibung anzeigen

Evaporation System (IAF-06.1)

VergabeHero-Einschätzung

Das Fraunhofer IAF in München sucht einen Lieferanten für eine spezielle Beschichtungsanlage, die Metalle auf Halbleiter-Wafer aufdampft. Die Maschine arbeitet im Hochvakuum, ist wassergekühlt und kann Wafer mit einem Durchmesser von 150 Millimetern bearbeiten. Nach Vertragsunterzeichnung sollen Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme innerhalb von 210 Tagen abgeschlossen sein. Der Zuschlag wird zu 65 Prozent nach technischer Qualität und zu 35 Prozent nach Preis vergeben. (interne Bezeichnung des Auftraggebers: IAF-06.1, Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage)

Maschinen und AnlagenForschungsausrüstungHalbleitertechnikForschung und EntwicklungWissenschaftÖffentlicher SektorElektronenstrahl VerdampfungHalbleiterproduktionHochvakuumtechnikForschungseinrichtungAnlagentechnikMetallbeschichtung
Eignung

Zentrale Anforderungen

5 Punkte
  • Referenzen für Hochvakuum-Beschichtungsanlagen
  • Erfahrung mit 150-mm-Wafer-Systemen
  • Technische Dokumentation auf Deutsch oder Englisch
  • Lieferung und Inbetriebnahme innerhalb von 210 Tagen
  • Nachweis der Eignung nach nationalem Vergaberecht

KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen. Verbindlich ist der Originaltext unten.

Eignungskriterien (Volltext)

Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents

Lose

Aufteilung in Lose

1 Lot
LOT-0000Evaporation System (IAF-06.1) - PR1197813-2050-P

1 Evaporation System Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung einer Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung. Die Anlage soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt sein. Es handelt sich um eine wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage für die Metallabscheidung im vertikalen und schrägen Winkel (Substrat um 45 Grad geneigt).

CPV 42900000Frist 15. Juni 2026210 Tage Laufzeit
Bewertung

Zuschlagskriterien

2 Kriterien
  • quality

    Technik

    65%
  • price

    Preis

    35%
Zeitleiste

Zeitplan

  1. 11. Mai 2026
    Bekanntmachung veröffentlicht
    Auf TED publiziert
  2. 15. Juni 2026
    Einreichungsfrist
    Elektronische Einreichung
Anhänge

Dokumente & Links

1 Link