Vergabeentscheid

Zuschlag erteilt

Auftragsgewinner: KLA Corporation

Auftragswert

unbekannt

Zuschlag am

22. Dez. 2025

TED·500959-2026

DRIE-Ätzcluster-System (Mainframe mit 3 Prozesskammern)

Sachsen
München, Germany·Veröffentlicht 20. Juli 2026
Industrie- und LaborbedarfForschung und EntwicklungForschung und EntwicklungÖffentliche VerwaltungHalbleitertechnikForschung Und EntwicklungLaborausstattungMikroelektronikHochtechnologie
Auftragswert
~€1.2M
Geschätzt · Konfidenz low
Einreichungsfrist
Leistungsbeschreibung

Was wird ausgeschrieben

Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein DRIE-Ätzcluster-System für die Halbleiterfertigung. Das System besteht aus einem Mainframe und drei spezialisierten Ätzkammern für Silizium-, Oxid- und Nitrid-Ätzprozesse. Der Einsatzort ist Dresden.

Vollständige Beschreibung anzeigen

DRIE etch cluster (Mainframe + 3 Chambers) (IPMS-MRS07.1; IPMS-MRS07.2; IPMS-MRS08.1; IPMS-MRS08.2)

VergabeHero-Einschätzung

Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht einen Lieferanten für ein hochspezialisiertes DRIE-Ätzcluster-System (Deep Reactive Ion Etching). Dieses System wird in der Halbleiterforschung eingesetzt und besteht aus einer zentralen Steuereinheit (Mainframe) sowie drei verschiedenen Prozesskammern, die jeweils für spezifische Ätzverfahren wie das tiefe Silizium-Ätzen oder das Ätzen von Hartmasken optimiert sind. Die Beschaffung findet für den Standort Dresden statt und unterliegt einer Gewichtung von 65 % für die technische Qualität und 35 % für den Preis. Es handelt sich um eine komplexe Laborausstattung für die Mikroelektronik-Forschung.

Lose

Aufteilung in Lose

1 Lot
LOT-0000DRIE etch cluster (Mainframe + 3 Chambers) (IPMS-MRS07.1; IPMS-MRS07.2; IPMS-MRS08.1; IPMS-MRS08.2) - PR882587-2480-P

1 Stück DRIE etch cluster (Mainframe+3 Kammern): IPMS-MRS07.1: Etching Mainframe IPMS-MRS07.2: DRIE etching chamber (Kammer1 für tiefes Silizium-Ätzen) IPMS-MRS08.1: Etching module, das in den Mainframe MRS07 integriert wird (Kammer 2 für das Oxid-Ätzen von dicken Hartmasken) IPMS-MRS08.2: ICP etching module, das in den Mainframe MRS07 integriert wird (Kammer 3 für Nitrid- und Poly-Si-Ätzung mit hoher Selektivität für SiO2) optionale Leistungspositionen: 5.7 Kassetten-/Wafer-Spezifikationen Verarbeitung von Quarz-Wafern gemäß den oben genannten Spezifikationen ja/nein 7.2 Erweiterte Gewährleistung Eine Verlängerung der Gewährleistung um weitere 12 Monate sollte angeboten werden. Während der Gewährleistungszeit sind alle Support-, Reparatur- und Ersatzteilkosten kostenlos. ja/nein 8.7 Mainframe DRIE-Cluster Bevorzugte Liftpin-Positionen (siehe Blatt Liftpin-Positionen) eine der drei angegebenen Konfigurationen ja/nein 12.2 Werkzeugabnahme Der Werkzeugkauf beinhaltet eine Abnahmeprüfung und eine Prozess- und Wartungsschulung für mindestens zwei Prozessingenieure und zwei Hardware-Ingenieure. ja/nein

CPV 42990000
Bewertung

Zuschlagskriterien

2 Kriterien
  • quality

    Technische Ausführung

    65%
  • price

    Preis

    35%
Zeitleiste

Zeitplan

  1. 20. Juli 2026
    Bekanntmachung veröffentlicht
    Auf TED publiziert
  2. 22. Dez. 2025
    Zuschlag erteilt
    Zuschlag an KLA Corporation

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