Vergabeentscheid
Zuschlag erteilt
Auftragsgewinner: planarTECH UK Limited
Auftragswert
unbekannt
Zuschlag am
26. Juni 2026
Lieferung einer CVD-Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung
Was wird ausgeschrieben
Die Universität Duisburg-Essen schreibt die Lieferung und Inbetriebnahme einer CVD-Anlage (Chemical Vapor Deposition) aus. Das Gerät dient der Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu einer Größe von 4 Zoll. Es handelt sich um ein einzelnes Los für den Forschungsbetrieb.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Lieferung einer CVD-Anlage
Die Universität Duisburg-Essen sucht einen Lieferanten für eine spezielle Laboranlage zur chemischen Gasphasenabscheidung, kurz CVD-Anlage genannt. Mit diesem Gerät können Wissenschaftler hauchdünne Materialschichten auf kleinen Trägerplättchen, sogenannten Substraten, erzeugen, was für die Materialforschung essenziell ist. Der Auftrag umfasst neben der eigentlichen Lieferung auch die fachgerechte Inbetriebnahme des Systems vor Ort. Da es sich um hochspezialisierte Forschungstechnik handelt, ist das Verfahren auf ein einzelnes Los begrenzt.
Aufteilung in Lose
1 LotLieferung einer CVD-Anlage (CVD: chemical vapor deposition = chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf verschiedenen Substraten mit Substratgrößen bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und inbetriebnahme. Die genauen Spezifikationen können der Leistungsbeschreibung entnommen werden.
Zuschlagskriterien
1 Kriterien- price100%
Preis
Zeitplan
- 29. Juni 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 26. Juni 2026Zuschlag erteiltZuschlag an planarTECH UK Limited