Lieferung einer CVD-Anlage zur Herstellung dünner Schichten

Die Universität Duisburg-Essen beschafft eine spezialisierte Anlage für die chemische Gasphasenabscheidung, kurz CVD-Anlage genannt. Mit diesem Gerät können in der Forschung extrem dünne Schichten aus speziellen Materialien wie Übergangsmetall-Dichalkogeniden auf kleinen Trägerplättchen, sogenannten Substraten, erzeugt werden. Der Auftrag umfasst neben der Lieferung auch die fachgerechte Inbetriebnahme der Anlage im Labor. Da es sich um hochspezialisierte wissenschaftliche Laborausrüstung handelt, ist das Verfahren auf die technische Eignung des Geräts fokussiert.