TED·275322-2026

Cluster-Beschichtungssystem mit ALD-, PECVD- und ICP-CVD-Kammern für 150-mm-Wafer

Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, GermanyVeröffentlicht 22. Apr. 2026
Auftragswert
~€1.2M
Geschätzt · Konfidenz medium
Einreichungsfrist
Leistungsbeschreibung

Was wird ausgeschrieben

Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein Cluster-Beschichtungssystem mit ALD- (Atomic Layer Deposition), PECVD- (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) und ICP-CVD- (Inductively Coupled Plasma CVD) Abscheidungskammern. Das System ist für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt. Die Lieferzeit beträgt 180 Tage. Die Vergabe erfolgt anhand der Kriterien Technik (65 %) und Preis (35 %).

Vollständige Beschreibung anzeigen

Cluster_ALD_PECVD_ICP-CVD (IAF-05.1/05.2/05.3/05.4/05.5)

VergabeHero-Einschätzung

Das Fraunhofer-Institut für Angewandte Materialforschung (IAF) beschafft ein hochspezialisiertes Cluster-Beschichtungssystem für die Halbleiterfertigung. Das System kombiniert drei verschiedene Dünnschicht-Abscheidungstechnologien (ALD, PECVD und ICP-CVD) in einer Anlage und kann 150-mm-Wafer bearbeiten. Solche Cluster-Systeme werden主要用于Halbleiter- und Materialforschung sowie für die Entwicklung neuer Beschichtungsprozesse eingesetzt. Der Auftraggeber ist eine der größten Forschungsorganisationen Europas. Die Vergabe erfolgt überwiegend nach technischer Qualität (65 %), wobei auch der Preis (35 %) eine Rolle spielt.

Manufacturing EquipmentResearch & DevelopmentLaboratory EquipmentResearchTechnologyHigher EducationSemiconductor EquipmentThin Film DepositionVacuum TechnologyResearch EquipmentMaterials ScienceCluster SystemCvd Technology
Eignung

Zentrale Anforderungen

5 Punkte
  • Erfahrung mit Halbleiter-Beschichtungsanlagen (ALD/PECVD/ICP-CVD)
  • Fähigkeit zur Lieferung von Cluster-Systemen für 150-mm-Wafer
  • Nachweis technischer Kompetenz im Bereich Vakuum- und Beschichtungstechnologie
  • Referenzen für vergleichbare Forschungsinfrastruktur-Lieferungen
  • Eignung als Lieferant von Hochpräzisions-Fertigungsgeräten

Eignungskriterien von KI ermittelt, keine offiziellen Angaben vom Auftraggeber vorhanden.

Lose

Aufteilung in Lose

1 Lot
LOT-0000Cluster_ALD_PECVD_ICP-CVD (IAF-05.1/05.2/05.3/05.4/05.5) - PR1036076-2050-P

1 Stück Cluster_ALD_PECVD_ICP-CVD Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung eines Clustersystems mit ALD-, PECVD- und ICP-CVD-Abscheidungskammer. Das System soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern geeignet sein.

CPV 42900000180 Tage Laufzeit
Bewertung

Zuschlagskriterien

2 Kriterien
  • quality

    Technik

    65%
  • price

    Preis

    35%
Zeitleiste

Zeitplan

  1. 22. Apr. 2026
    Bekanntmachung veröffentlicht
    Auf TED publiziert