Beschaffung eines FIB-SEM Dualbeam-Systems für die Halbleiterforschung
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein hochauflösendes FIB-SEM Dualbeam-System zur Nanostrukturierung und Analyse von Halbleitermaterialien. Das System muss spezifische Anforderungen an Schwingungsdämpfung sowie akustische und magnetische Abschirmung erfüllen. Der Auftrag hat eine Laufzeit von 360 Tagen.
Vollständige Beschreibung anzeigen
FIB & SEM system + floor vibrations, acoustics interference, and magnetic field interference (HHI-01)
Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht ein spezialisiertes Mikroskopiesystem, ein sogenanntes FIB-SEM Dualbeam-System. Dabei handelt es sich um eine Kombination aus einem fokussierten Ionenstrahl und einem Rasterelektronenmikroskop, das für die präzise Bearbeitung und Untersuchung von Halbleiterbauteilen im Nanometerbereich eingesetzt wird. Da das Gerät extrem empfindlich ist, muss es zusätzlich gegen Störeinflüsse wie Bodenvibrationen, Schall und magnetische Felder geschützt werden. Der Auftrag richtet sich an spezialisierte Hersteller von Labor- und Analysetechnik, die eine hohe technische Qualität und Nachhaltigkeit nachweisen können.
Zentrale Anforderungen
2 Punkte- Einhaltung der nationalen Ausschlussgründe
- Technische Eignung gemäß Vergabeunterlagen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren sowie Resists und für die Halbleitertechnik typischen Prozessprodukten eingesetzt. Programmierbare und automatisierte Routinen sollten nach Möglichkeit konfigurierbar sein. Im Rahmen der Ausschreibung soll das neue System installiert werden. Darüber hinaus sind am Aufstellungsort des Systems Raummessungen durchzuführen. Die Raummessungen sollten Bodenvibrationen, akustische Störungen und magnetische Störungen umfassen. Der Bieter verpflichtet sich, durch entsprechende Vorbereitungsmaßnahmen am Aufstellungsort sicherzustellen, dass die Gerätespezifikationen und die Prozessspezifikation (Prozessgas) eingehalten werden. Optionen - Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf - 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt - Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- quality50%
Technik
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price40%
Preis
Zeitplan
- 20. Juli 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 24. Juli 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung