Beschaffung eines FIB-SEM-Dualbeam-Systems für die Halbleiteranalyse
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein hochauflösendes FIB-SEM-Dualbeam-System für die Nanostrukturierung und Analyse von Halbleitermaterialien. Der Auftrag umfasst die Lieferung und Installation des Systems inklusive Maßnahmen zur Schwingungs- und Störfeldminimierung. Die Vertragslaufzeit beträgt 360 Tage.
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FIB & SEM system + floor vibrations, acoustics interference, and magnetic field interference (HHI-01)
Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht ein spezialisiertes Mikroskopsystem, das Ionenstrahl- und Elektronenstrahltechnologie kombiniert (FIB-SEM). Dieses Gerät wird für die präzise Bearbeitung und Untersuchung von Halbleitern und Polymeren im Nanobereich eingesetzt. Da das System extrem empfindlich ist, müssen auch Lösungen für den Schutz vor Bodenvibrationen, akustischen Störungen und magnetischen Feldern integriert werden. Der Auftrag ist auf eine Laufzeit von einem Jahr ausgelegt und richtet sich an spezialisierte Anbieter von Labor- und Analysetechnik. (interne Bezeichnung des Auftraggebers: FIB & SEM system (HHI-01) - PR1216644-3220-P)
Zentrale Anforderungen
3 Punkte- Einhaltung der nationalen Ausschlussgründe
- Erfüllung der technischen Spezifikationen für FIB-SEM-Systeme
- Nachweis der Eignung gemäß Vergabeunterlagen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren sowie Resists und für die Halbleitertechnik typischen Prozessprodukten eingesetzt. Programmierbare und automatisierte Routinen sollten nach Möglichkeit konfigurierbar sein. Optionen - Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf - 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt - Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- quality50%
Technik
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price40%
Preis
Zeitplan
- 31. Juli 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 17. Aug. 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung