Beschaffung eines Facetten-Passivierungs- und Beschichtungssystems für Halbleiter
Was wird ausgeschrieben
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt die Lieferung eines spezialisierten Beschichtungssystems zur Facettenpassivierung von optoelektronischen Halbleiterbauelementen aus. Das System dient insbesondere der Aufbringung von Antireflexbeschichtungen bei Hochleistungslasern, um thermische Schäden zu vermeiden. Die Projektlaufzeit ist auf 450 Tage angesetzt.
Vollständige Beschreibung anzeigen
Facet passivation and coating system (HHI-08)
Das Fraunhofer-Institut sucht ein hochspezialisiertes technisches System, um die Oberflächen von Halbleiterbauelementen, wie etwa Hochleistungslasern, zu beschichten und zu passivieren. Diese Behandlung ist notwendig, um die empfindlichen Oberflächen vor Defekten und Überhitzung zu schützen, die bei herkömmlichen Verfahren durch zu hohe Energien entstehen könnten. Das System wird für Forschungs- und Entwicklungszwecke eingesetzt und muss hohe Anforderungen an die Präzision erfüllen. Der Auftrag hat eine Laufzeit von etwa 15 Monaten und wird durch EU-Mittel gefördert. Die Vergabe erfolgt anhand einer Kombination aus technischer Qualität, Nachhaltigkeitsaspekten und dem Preis.
Zentrale Anforderungen
2 Punkte- Einhaltung der nationalen Ausschlussgründe
- Erfüllung der technischen Spezifikationen gemäß Vergabeunterlagen
KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen. Verbindlich ist der Originaltext unten.
Eignungskriterien (Volltext)
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Aufteilung in Lose
1 Lot1 Facet passivation and coating syste Das ausgeschriebene System ist für die Abscheidung optischer Funktionsbeschichtungen auf optoelektronischen Halbleiterbauelementen vorgesehen, insbesondere für Antireflexbeschichtungen und die Facettenpassivierung von Hochleistungslasern. Bei Hochleistungslasern können Defekte an der Facettenoberfläche zu lokalen Hotspots und thermischen Schäden führen. Herkömmliche Sputterverfahren arbeiten mit vergleichsweise hohen Ionenenergien, was empfindliche Facettenoberflächen beeinträchtigen kann. Die plasmaunterstützte Abscheidung mittels Elektronenzyklotronresonanz (ECR) ermöglicht eine deutliche Reduzierung der Ionenprallenergie durch die Entkopplung der Plasmagenerierung von der Ionenbeschleunigung, was eine schonende und zuverlässige Beschichtung ermöglicht. Aus diesem Grund ist ein ECR-basiertes Beschichtungssystem für die vorliegende Anwendung zwingend erforderlich. Optionen Extended Warranty Spectral System Measurement range Accuracy - thin films 5-20 nm Accuracy - medium thickness 20-200 nm Optical constants Flip mechanism Cooling water
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- quality50%
Technik
- quality10%
Nachhaltigkeit
- price40%
Preis
Zeitplan
- 4. Juni 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 3. Juli 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung