Beschaffung einer Remote-Plasma-PVD-Prozesskammer für 300-mm-Wafer

Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12

München, Germany·Veröffentlicht 1. Juli 2026

Labor- und ForschungsausrüstungIndustrielle FertigungstechnikForschung und EntwicklungÖffentliche VerwaltungHalbleitertechnikForschung Und EntwicklungLaborausstattungPvd VerfahrenHochtechnologie

Match

Konto erstellen

Auftragswert

~€250k

Geschätzt · Konfidenz low

Einreichungsfrist

—

Angebot abgeben

Leistungsbeschreibung

Was wird ausgeschrieben

Das Fraunhofer-Institut beschafft eine Remote-Plasma-PVD-Prozesskammer als Erweiterung für ein bestehendes Depositionscluster. Die Anlage dient der Abscheidung von Dünnschichten auf 300-mm-Wafern und muss mit dem vorhandenen System 'Flextura 300' kompatibel sein. Es handelt sich um eine Einzelbeschaffung im Bereich der Halbleiterfertigungsausrüstung.

Vollständige Beschreibung anzeigen

Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2)

VergabeHero-Einschätzung

Das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) sucht eine spezialisierte Prozesskammer für die Dünnschichtabscheidung mittels Sputter-Verfahren. Diese Kammer wird als Erweiterung in ein bestehendes System zur Wafer-Bearbeitung integriert und muss technisch nahtlos mit den bereits vorhandenen Modulen des 'Flextura 300'-Clusters zusammenarbeiten. Da es sich um hochspezialisierte Forschungsausrüstung für die Halbleitertechnologie handelt, ist eine hohe technische Kompatibilität zwingend erforderlich. Die Beschaffung erfolgt im Rahmen eines Verhandlungsverfahrens ohne vorherigen Aufruf zum Wettbewerb, da die technische Spezifikation sehr spezifisch auf die bestehende Infrastruktur zugeschnitten ist.

Lose

Aufteilung in Lose

1 Lot

LOT-0000Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) - PR917294-2480-P

1 Stück Remote Plasma PVD Chamber Eine Prozesskammer als Ausrüstungserweiterung zur Abscheidung metallischer und nichtmetallischer Dünnschichten mittels PVD-Verfahren (Sputtering) auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Die Sputterkammer als Upgrade des bestehenden Polyteknik Flextura 300 Depositionsclusters muss mit dem bestehenden Mainframe "Flextura 300" und den bereits vorhandenen Kammern "Confocal Sputter Module", "Degas Module", "Cooling Module" und "MBE Module" kompatibel sein. Optionale Leistungspositionen: 3.1.11 Plasma-Fernkammer - allgemein Plasma-Emissions-Monitoring (PEM) mit Rückkopplungssteuerung bitte Typ und Genauigkeit angeben 3.1.12 Plasma-Fernkammer - allgemein Restgasanalysator (RGA) Massenspektrometer Lieferoption 3.1.18 Plasma-Fernkammer - allgemein Quarzkristall-Mikrowaage zur Bestimmung der Depositionsrate, abnehmbar/abdeckbar ohne Kammeröffnung (z. B. Shutter oder versenkbar) Lieferoption; bitte Anzahl der QCMs, Art des Abdeckmechanismus (z. B. Shutter oder einziehbar); bitte Anzahl der QCMs und Art des Abdeckmechanismus angeben 3.2.3 Remote-Plasmakammer - Gasleitungen zusätzlicher Gaseinlass für vorgemischte Flaschen mit Standardflansch Lieferoption 3.4.6 Remote-Plasmakammer - Targets vorinstallierte Targetmaterialien und Reinheit: Zr (4N), Nb (4N) bitte als Lieferoption angeben 3.4.7 Remote Plasmakammer - Targets zusätzliche vorinstallierte Targetmaterialien und Reinheiten: Cu (5N), SiN (3N) bitte als Lieferoption angeben 5.7 Gewährleistungsverlängerung Verlängerung der Grundgewährleistungszeit um ein weiteres Jahr bitte als Option angeben

CPV 42990000

Bewertung

Zuschlagskriterien

1 Kriterien

price
Preis
100%

Zeitleiste

Zeitplan

1. Juli 2026
Bekanntmachung veröffentlicht
Auf TED publiziert
10. Nov. 2025
Zuschlag erteilt
Zuschlag an Polyteknik AS