Beschaffung einer Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage für Forschungszwecke
Was wird ausgeschrieben
Die Technische Universität München schreibt die Lieferung einer Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage aus. Das Gerät dient der Durchführung wissenschaftlicher Forschungsarbeiten. Der Auftrag umfasst ein Los mit einer Laufzeit von 365 Tagen.
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Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten
Die Technische Universität München sucht einen Anbieter für eine sogenannte Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage. Dabei handelt es sich um ein hochspezialisiertes Laborgerät, das in der Materialwissenschaft eingesetzt wird, um extrem dünne Schichten auf Oberflächen aufzutragen. Die Anlage ist für den Einsatz in der universitären Forschung vorgesehen und soll innerhalb eines Jahres geliefert werden. Die Vergabe erfolgt auf Basis einer Kombination aus Preis und technischer Qualität.
Aufteilung in Lose
1 Lots. Leistungsbeschreibung
Zuschlagskriterien
3 Kriterien- price40%
s. Zuschlagskriterien
- quality40%
s. Zuschlagskriterien
- quality20%
s. Zuschlagskriterien
Zeitplan
- 11. Juni 2026Bekanntmachung veröffentlichtAuf TED publiziert
- 13. Juli 2026EinreichungsfristElektronische Einreichung