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316712-2026TEDBekanntmachungVeröffentlicht 8. Mai 2026·Offenes Verfahren·CPV 42900000Schließt in 27 Tagen

Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für Metallbeschichtung

Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12München, GermanySchließt 8. Juni 2026Komplexität high
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Auftragswert
~€950k
Geschätzt · Konfidenz low
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Einreichungsfrist
8. Juni 2026
Bekannt seit 8. Mai 2026
Analysiert am 10. Mai 2026
Was wird ausgeschrieben
KI-Zusammenfassung

Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft eine Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage (Evaporation System) für das Fraunhofer IAF. Die Anlage dient der Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern und ist als wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage für die Metallabscheidung im vertikalen und schrägen Winkel (Substrat um 45 Grad geneigt) konzipiert. Die Lieferzeit beträgt 210 Tage.

Vollständige Beschreibung anzeigen

Evaporation System (IAF-06.1)

VergabeHero-Zusammenfassung. Das Fraunhofer-Institut für Angewandte Materialforschung (IAF) beschafft eine Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung von Halbleiterwafern. Bei dieser Anlage handelt es sich um eine wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage, die Metallabscheidungen im vertikalen und schrägen Winkel ermöglicht — das Substrat kann um 45 Grad geneigt werden, was für spezielle Beschichtungsprozesse wichtig ist. Die Anlage ist für 150-mm-Wafer ausgelegt und wird am Standort in Baden-Württemberg (Rhein-Neckar-Kreis) eingesetzt. Die Lieferzeit beträgt rund 7 Monate. Bewerber müssen die einschlägigen nationalen Ausschlussgründe erfüllen; nähere Eignungsnachweise sind in den Vergabeunterlagen definiert.
KI-Klassifizierung
Manufacturing EquipmentResearch & DevelopmentSemiconductorResearchSemiconductorAdvanced ManufacturingElectron Beam EvaporationVacuum Coating SystemSemiconductor EquipmentThin Film DepositionWafer ProcessingResearch EquipmentMetal Coating
Zentrale Anforderungen
· 3 Punkte
  • Nachweis der Erfüllung aller nationalen Ausschlussgründe
  • Eignung für Lieferung hochwertiger Forschungsgeräte
  • Technische Kompetenz im Bereich Vakuumbeschichtungstechnologie

KI-zusammengefasst aus den offiziellen Eignungsanforderungen — verbindlich ist der Originaltext unten.

Eignungskriterien (Volltext)

Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents

Lose
· 1 Lot
LOT-0000Evaporation System (IAF-06.1) - PR1197813-2050-P

1 Evaporation System Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung einer Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung. Die Anlage soll für die Bearbeitung von 150-mm-Wafern ausgelegt sein. Es handelt sich um eine wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage für die Metallabscheidung im vertikalen und schrägen Winkel (Substrat um 45 Grad geneigt).

CPV 42900000Frist 8. Juni 2026210 Tage Laufzeit
Zuschlagskriterien
· 2 Kriterien
  • quality

    Technik

    65%
  • price

    Preis

    35%
Zeitleiste
  1. 8. Mai 2026
    Bekanntmachung veröffentlicht
    Auf TED publiziert
  2. 8. Juni 2026
    Einreichungsfrist
    Elektronische Einreichung