Anlage1_Chamber_DN200CF_19.09-beta2.pdf

Dauerstrichlaserheizsystem mit Probenmanipulation für die thermische Behandlung im Ultrahochvakuum

Extrahierter Dokumenttext · Stand: 16.10.2026, 16:21 (Europe/Berlin)

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A A

TOP ( 1 : 5 )

ISO ( 1 : 5 )

B B

RIGHT ( 1 : 5 )

C C

FRONT ( 1 : 5 )

295,77

Laser Port 2 DN200CF

0 3 8 , 0 4 , 0 6 2 7 n 1 2 D 8 D 1 , 0 0 3 5 8 Laser Port 1 ,6 9

1 8 1 30° 244,00 , 0 0

208,86 E E

BOTTOM ( 1 : 5 )

Date Name 20-Sep-26 dmitry zyabkin Drawn F Checked F Standard 1

Chamber_DN200CF

A2 State Changes Date Name 1 2 3 4 5 6 7 8

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