Teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken
Fraunhofer ENAS · Deutschland · DOEV
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Zusammenfassung
Fraunhofer ENAS beschafft ein teilautomatisches Reinigungssystem zur Reinigung fotolithografischer Masken für die Halbleiterindustrie. Das System soll in einem Reinraum in der Region Sachsen installiert werden und Masken mit 6, 7 und 9 Zoll Größe durch eine austauschbare Maskenaufnahme reinigen können. Die Angebotsfrist endet am 16. September 2026 um 10:00 Uhr.
Vergabeunterlagen
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Beschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Lose
1 LosBeschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken