Teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken
Fraunhofer ENAS · Deutschland · service.bund.de
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Zusammenfassung
Ausgeschrieben ist ein teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken als Lieferleistung. Auftraggeber ist das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme (Fraunhofer ENAS) in Sachsen. Angebote können bis zum 16. September 2026 um 10:00 Uhr (UTC) eingereicht werden; Angaben zu Umfang, Auftragswert und Laufzeit liegen nicht vor.
Vergabeunterlagen
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Leistungsverzeichnis.pdf
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Eigenerklärung.docx
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