Secondary Ion Mass Spectrometer (SIMS) für Materialanalytik
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 · München, Deutschland · TED
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Zusammenfassung
Die Fraunhofer-Gesellschaft (Standort München) beschafft ein hochempfindliches Secondary Ion Mass Spectrometer (SIMS) zur Tiefenprofilanalyse von Halbleitermaterialien. Das Gerät soll Dotier- und Verunreinigungsprofile mit hoher Tiefenauflösung bestimmen sowie Schichtdicken und Homogenität charakterisieren, insbesondere für III-V- und diamantbasierte Bauelemente bis 150 mm Substratgröße. Die Ausschreibung läuft im offenen Verfahren mit Abgabefrist 23. September 2026 und einer geplanten Lieferdauer von 540 Tagen.
Vergabeunterlagen
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Leistungsverzeichnis.pdf
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Eigenerklärung.docx
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Beschreibung
Secondary ion mass spectrometer (SIMS)
Qualifikation
Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and discretionary grounds for exclusion laid down in national law shall apply. Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents
Lose
1 Los1 pc. The objective is to procure a highly sensitive SIMS instrument for depth‑profiled chemical analysis of semiconductor materials and structures, offering high depth resolution and high mass resolving power. The system shall enable precise dopant and impurity profiling, as well as accurate determination of layer thickness and homogeneity, with a focus on characterizing advanced III‑V and diamond‑based device structures and epitaxial layers, including 150 mm substrates, to support process development, quality control and optimization at Fraunhofer IAF.
Zuschlagskriterien
2 Kriterien- quality65%
Technik
- price35%
Preis